光刻技術是通過光化學反應和物理化學蝕刻將電路圖形轉移到介電層上，形成功能圖形的一種方法。廣泛應用于PCB領域。
光刻膠在光的照射下可以在空間和時間上發(fā)生光化學反應。在光刻過程中，感光干膜是最關鍵的材料部分，主要組成為單體、交聯(lián)劑和光引發(fā)體系。光引發(fā)劑體系在光照條件下，吸收能量產生活性物質引發(fā)反應。被用作感光干膜的光引發(fā)劑有BCIM、784、TPS、NPG、LCV。
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