廣傳光引發(fā)劑 | 光刻膠
發(fā)布時間：2022-04-14
光刻膠是集成電路制造的重要材料：光刻膠的質(zhì)量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關(guān)鍵因素。
按照化學(xué)結(jié)構(gòu)分類；光刻膠可以分為光聚合型，光分解型，光交聯(lián)型和化學(xué)放大型。
光聚合型光刻膠采用烯類單體，在光作用下生成自由基，進(jìn)一步引發(fā)單體聚合，最后生成聚合物；
光分解型光刻膠，采用含有重氮醌類化合物材料作為感光劑，其經(jīng)光照后發(fā)生光分解反應(yīng)，可以制成正性光刻膠；
光交聯(lián)型光刻膠采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料，在光的作用下，形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，而起到抗蝕作用，可以制成負(fù)性光刻膠；
化學(xué)放大型光刻膠采用光致產(chǎn)酸劑作為光引發(fā)劑，經(jīng)紫外光照產(chǎn)生質(zhì)子酸，引發(fā)單體的聚合交聯(lián)，最后生成聚合物。
可用于光刻膠的光引發(fā)劑有GC-6223、TPS、LCV、NPG、9-PA。
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