光刻膠，又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、準(zhǔn)分子激光、X射線、電子束等光源的照射或輻射，使其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料。主要用于電子工業(yè)中集成電路和半導(dǎo)體分立器件的微細(xì)加工，同時(shí)在平板顯示、發(fā)光二極管、倒扣封裝、磁頭及精密傳感器等制作過程中也有著廣泛的應(yīng)用。光刻膠具有光化學(xué)敏感性，可進(jìn)行光化學(xué)反應(yīng)，將光刻膠涂覆在半導(dǎo)體、導(dǎo)體或絕緣體基片上，經(jīng)曝光、顯影后留下的部分對(duì)基片起保護(hù)作用，然后采用蝕刻劑進(jìn)行蝕刻就可將所需要的微細(xì)圖形從掩膜版轉(zhuǎn)移到待加工的基片上，并進(jìn)行擴(kuò)散、離子注入、金屬化等工藝。因此光刻膠是微細(xì)加工技術(shù)中的關(guān)鍵性化工材料。
光刻膠由成膜樹脂（聚合劑）、光引發(fā)劑、溶劑及添加劑構(gòu)成。成膜樹脂用于將光刻膠中不同材料聚合在一起，構(gòu)成光刻膠的骨架，決定光刻膠的硬度、柔韌性、附著力等基本屬性。光引發(fā)劑包括光增感劑和光致產(chǎn)酸劑，是光刻膠的關(guān)鍵成分，對(duì)光刻膠的感光度、分辨率起著決定性作用。
在UV光刻膠中，光引發(fā)劑的選擇是一項(xiàng)重點(diǎn)，如果光引發(fā)劑選擇不當(dāng)，曝光后的光刻膠就很難發(fā)生溶解度的變化。如果您有為如何選擇UV光刻膠的引發(fā)劑而頭疼過的話，廣傳的GC-6223、GC-6229恰好能夠解決您的問題。具體詳情，點(diǎn)擊下方鏈接咨詢我們吧~
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