??圖形反轉(zhuǎn)膠是比較常見的一種紫外光刻膠，它既可以當(dāng)正膠使用又可以作為負(fù)膠使用，在正常工藝下為正膠，但是通過后烘和泛曝光后會(huì)呈現(xiàn)負(fù)膠特性。
??光刻膠主要由三部分組成：光敏成分、樹脂、溶劑。圖形反轉(zhuǎn)膠的刻蝕原理如下：當(dāng)掩模曝光時(shí)，掩模曝光區(qū)域的光敏成分轉(zhuǎn)變?yōu)轸人?，親水，可溶于堿性顯影液中；反轉(zhuǎn)烘導(dǎo)致樹脂部分在相對(duì)較高的溫度下發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)，而以上產(chǎn)生的酸對(duì)交聯(lián)反應(yīng)有促進(jìn)作用，在曝光的區(qū)域發(fā)生的交聯(lián)反應(yīng)比未曝光的區(qū)域中多得多，結(jié)果在泛曝光后掩模曝光區(qū)域比未掩模曝光區(qū)域溶解性低，從而未掩模曝光區(qū)域被顯掉而曝光的區(qū)域留下來實(shí)現(xiàn)了圖像反轉(zhuǎn)。
??泛曝光，是在不使用掩膜的情況下的曝光過程，會(huì)對(duì)未暴露的光刻膠區(qū)域進(jìn)行曝光，從而可以在后續(xù)的顯影過程被溶解顯影。為了使光刻膠輪廓延伸到襯底，（襯底附近）光刻膠區(qū)域也應(yīng)獲得足夠的曝光劑量。泛曝光的劑量過大并不會(huì)影響后續(xù)的工藝過程，因?yàn)榈谝淮纹毓鈪^(qū)域的光刻膠在反轉(zhuǎn)烘烤過程中已經(jīng)不再感光。
??在反轉(zhuǎn)工藝下，通過適當(dāng)?shù)墓に噮?shù)，可以獲得底切的側(cè)壁形態(tài)。這種方法的主要應(yīng)用領(lǐng)域是剝離過程，在剝離過程中，底切的形態(tài)可以防止沉積的材料在光刻膠邊緣和側(cè)壁上形成連續(xù)薄膜，有助于獲得干凈的剝離光刻膠結(jié)構(gòu)。
在圖像反轉(zhuǎn)烘烤步驟中，光刻膠的熱穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性可以得到部分改善。因此，光刻膠在后續(xù)的工藝中如濕法、干法蝕刻以及電鍍中都體現(xiàn)出一定的優(yōu)勢(shì)。然而，這些優(yōu)點(diǎn)通常被比較麻煩的圖像反轉(zhuǎn)處理工藝的缺點(diǎn)所掩蓋。如額外增加的處理步驟和很難或幾乎不可能獲得垂直的光刻膠側(cè)壁結(jié)構(gòu)。因此，圖形反轉(zhuǎn)膠更多的是被應(yīng)用于剝離應(yīng)用中。
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