廣傳光引發(fā)劑 | 正性光刻膠和負(fù)性光刻膠
發(fā)布時(shí)間：2022-11-03
正性光刻
正性光刻是復(fù)制到硅片表面的圖形與掩膜版一樣，被紫外光曝光后的區(qū)域經(jīng)歷了一種化學(xué)反應(yīng)，在顯影液中軟化并可溶解在顯影液中。曝光的正性光刻膠區(qū)域?qū)⒃陲@影液中除去，而不透明的掩膜版下的沒有被曝光的光刻膠仍留在硅片上，由于形成的光刻膠上的圖形與投影掩膜版上的相同，所以這種光刻膠就叫做正性光刻膠。保留下來的光刻膠在曝光前已被硬化并將留在硅片表面，作為后步工藝比如刻蝕的保護(hù)層，在接下來的工藝結(jié)束后光刻膠將被除去。
負(fù)性光刻
負(fù)性光刻的基本特征是當(dāng)曝光后，光刻膠會因交聯(lián)而變得不可溶解并會硬化。一旦硬化，交聯(lián)的光刻膠就不能在溶劑中被洗掉，因?yàn)楣饪棠z上的圖形與投影掩膜版上的圖形相反。負(fù)性光刻膠是最早應(yīng)用在半導(dǎo)體光刻工藝中的光刻膠。
對于負(fù)性光刻膠，在掩膜版上不透明鉻下面的區(qū)域沒被曝光，因此沒有改變，光刻膠仍保持軟的狀態(tài)。當(dāng)曝露在顯影化學(xué)溶劑中時(shí)就會溶解。紫外光透過掩膜版透明區(qū)域后把光刻膠硬化，所以就不會溶解在顯影液中。
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