廣傳光引發(fā)劑 | 感光干膜
發(fā)布時(shí)間：2022-04-11
光刻技術(shù)是通過光化學(xué)反應(yīng)和物理化學(xué)蝕刻將電路圖形轉(zhuǎn)移到介電層上，形成功能圖形的一種方法。廣泛應(yīng)用于PCB領(lǐng)域。
光刻膠在光的照射下可以在空間和時(shí)間上發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)。在光刻過程中，感光干膜是最關(guān)鍵的材料部分，主要組成為單體、交聯(lián)劑和光引發(fā)體系。光引發(fā)劑體系在光照條件下，吸收能量產(chǎn)生活性物質(zhì)引發(fā)反應(yīng)。被用作感光干膜的光引發(fā)劑有BCIM、784、TPS、NPG、LCV。
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