廣傳光引發(fā)劑 | 光刻膠
發(fā)布時間：2022-04-14
光刻膠是集成電路制造的重要材料：光刻膠的質量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關鍵因素。
按照化學結構分類；光刻膠可以分為光聚合型，光分解型，光交聯型和化學放大型。
光聚合型光刻膠采用烯類單體，在光作用下生成自由基，進一步引發(fā)單體聚合，最后生成聚合物；
光分解型光刻膠，采用含有重氮醌類化合物材料作為感光劑，其經光照后發(fā)生光分解反應，可以制成正性光刻膠；
光交聯型光刻膠采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料，在光的作用下，形成一種不溶性的網狀結構，而起到抗蝕作用，可以制成負性光刻膠；
化學放大型光刻膠采用光致產酸劑作為光引發(fā)劑，經紫外光照產生質子酸，引發(fā)單體的聚合交聯，最后生成聚合物。
可用于光刻膠的光引發(fā)劑有GC-6223、TPS、LCV、NPG、9-PA。
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