廣傳光引發(fā)劑 | 點進來告訴你，UV光刻膠引發(fā)劑怎么選
發(fā)布時間：2022-10-06
光刻膠，又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、準分子激光、X射線、電子束等光源的照射或輻射，使其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料。主要用于電子工業(yè)中集成電路和半導體分立器件的微細加工，同時在平板顯示、發(fā)光二極管、倒扣封裝、磁頭及精密傳感器等制作過程中也有著廣泛的應用。光刻膠具有光化學敏感性，可進行光化學反應，將光刻膠涂覆在半導體、導體或絕緣體基片上，經曝光、顯影后留下的部分對基片起保護作用，然后采用蝕刻劑進行蝕刻就可將所需要的微細圖形從掩膜版轉移到待加工的基片上，并進行擴散、離子注入、金屬化等工藝。因此光刻膠是微細加工技術中的關鍵性化工材料。
光刻膠由成膜樹脂（聚合劑）、光引發(fā)劑、溶劑及添加劑構成。成膜樹脂用于將光刻膠中不同材料聚合在一起，構成光刻膠的骨架，決定光刻膠的硬度、柔韌性、附著力等基本屬性。光引發(fā)劑包括光增感劑和光致產酸劑，是光刻膠的關鍵成分，對光刻膠的感光度、分辨率起著決定性作用。
在UV光刻膠中，光引發(fā)劑的選擇是一項重點，如果光引發(fā)劑選擇不當，曝光后的光刻膠就很難發(fā)生溶解度的變化。如果您有為如何選擇UV光刻膠的引發(fā)劑而頭疼過的話，廣傳的GC-6223、GC-6229恰好能夠解決您的問題。具體詳情，點擊下方鏈接咨詢我們吧~
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